AVP IBE System

- 廣泛适用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光栅等。
- 成熟、可靠、低成本、高産能、7/24連續運行的薄膜刻蝕系統
- 歐美工業生産驗證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝
- 傑出的薄膜刻蝕均勻性和重複性
- 純物理刻蝕，采用惰性氣體爲工藝氣體，環保、無污染，應用廣泛