産品技術
Product technology
| 産品技術 | 薄膜刻蝕
AVP ICP RIE System
AVP ICP RIE System
-廣泛适用于氧化矽、氮化物、金屬、有機薄膜的刻蝕
-ICP産生的高密度等離子體
-可刻蝕8英寸晶圓或9.5英寸基片
-可靠、低...
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AVP ICP RIE System
AVP IBE System
AVP IBE System
- 廣泛适用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光栅等。
- ...
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AVP IBE System
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