産品技術
Product technology
| 産品技術 | 薄膜沉積
AVP 4T PVD SYSTEM
-各種薄膜、精密光學薄膜沉積的解決方案
-各種成熟的、2-8英寸的RF、DC、Pulsed DC、反應等薄膜沉積工藝
-成熟、可靠、低成本、高産能、7/24連續運行的薄膜沉積系統
-廣泛應用于歐美光學器件、MEMS、存儲等工業界的薄膜沉積
産品參數
AVP 4T PVD SYSTEM
工藝腔體(Process Module)4個8英寸的靶材(通常用于6"晶圓);或2個10英寸的靶材(通常用于8"晶圓)
運輸腔體(Transportation Module)BROOKS Marathon™ Express, MX400或MX500,帶晶圓位置自動校準器
晶圓上、下載腔體(LoadLock)BROOKS VCE, 可載12片晶圓或定制的樣品盒(Cassette)
晶圓尺寸最大8",可定制
批量(batch)一次最多可運行8個6”晶圓;或6個8"晶圓;或定制
磁控槍DC磁控/PDC磁控/RF/RF磁控
在線薄膜厚度監控光譜薄膜厚度儀
靶材電源≤5kW的射頻(RF)、或直流(DC)、或脈沖直流(PDC)電源
樣品台 
射頻偏壓、樣品清潔(Pre-Clean)1kW射頻(RF)電源,
旋轉速度0~10 (RPM, 轉/分鍾)
垂直升降高度0~35毫米
冷卻水冷
典型工藝氣體Ar, O2, N2 
工藝氣體通道2路
工藝腔體真空<3 x 10-8 Torr
工藝腔體真空泵分子泵、水泵、機械泵
自動控制系統DeviceNet/PLC
工業控制軟件基于微軟WINDOWS的GUI工業控制軟件,帶遠程維護、支持功能