- 半導體、硬盤、光學、LED、MEMS、MRAM鍍膜解決方案
- 可靠、低成本、高産能薄膜沉積系統
- 廣泛應用于歐美工業生産
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-高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
-高速率反應濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
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-各種薄膜、精密光學薄膜沉積的解決方案
-各種成熟的、2-8英寸的RF、DC、Pulsed DC、反應等薄膜沉積工藝
-成熟、可靠、低成...

-廣泛适用于MEMS器件、GMR、TMR器件、多層膜、磁性薄膜沉積
-成熟、可靠、低成本、高産能、7/24連續運行的薄膜沉積系統
-歐美...